研磨盘

适用于 CMP 抛光过程之前的精加工抛光。

抛光板具有耐用性、可维护性和出色的抛光能力。

 磨盘使用时，需按照研磨产品的不同品质要求，设计合理的加工工艺， 可将锡盘表面开槽(槽距、槽宽、槽深)以利储液排屑，同时调整设备主轴的合适转速，最大限度的提高研磨质量的效率。 

     磨盘工作一定的时间后，前期的开槽会变浅同时盘面平面度较差，为保证研磨精度和效率，需及时对磨盘进行重新修面及开槽。

磨盘标准直径为15”（φ380）、18”（φ460）、20”（φ510）、24”（φ610）、36”（φ910），厚度皆为12.7mm。